雙面光刻機

雙面光刻機是一種用於動力與電氣工程領域的工藝試驗儀器，於2008年12月20日啟用。

基本介紹

• 中文名：雙面光刻機
• 產地：德國
• 學科領域：動力與電氣工程
• 啟用日期：2008年12月20日
• 所屬類別：工藝試驗儀器 > 電子工藝實驗設備 > 電子產品通用工藝實驗設備

技術指標

解析度1μm，正面對準精度0.5μm，背面對準精度1μm。

主要功能

半導體加工工藝的圖形轉移及鍵合對準。