陶瓷拋光是在陶瓷研磨後為進一步提高表面精度，使用軟質彈性或粘彈性的工具和微粉磨料，使工件表面達到鏡面的光潔度，拋光的機理有力學的微小除去：磨料前端的微小切削作用除去表面凹凸。
基本介紹
- 中文名：陶瓷拋光
- 外文名：ceramic polishing
- 學科：材料工程
- 領域：工程技術
簡介,性質,原理,CMP,
簡介
陶瓷拋光是在陶瓷研磨後為進一步提高表面精度，使用軟質彈性或粘彈性的工具和微粉磨料，使工件表面達到鏡面的光潔度，拋光的機理有力學的微小除去：磨料前端的微小切削作用除去表面凹凸。
性質
流動說(塑性流動、熱流動);化學作用說拋光(研磨)的方法有：
(1)鑽石拋光，用一定粒度及濃度的鑽石磨料，進行機械研磨；
(2)水和拋光，在大於100度的水蒸氣中，杌械性地摩擦試樣與拋光具，引起水和反應,如藍寶石的表面拋光叮用此法；
(3)火焰拋光，表面直熱鬧與高溫火焰或電漿接觸，引起局部融化,在再結晶過程中去除表面缺陷；
(4)機械化學拋光，利用磨料與試樣間發生反應而拋光表面；
(5)濕式化學拋光，在一定溫度，濃度的腐蝕劑中進行腐蝕；
(6)千式化學拋光，如對藍寶石，使純氨氣與3%的SiH，氣體在10Pa的壓力下流通，加熱到1350度以0. 5μm/mm的加工速度除去藍寶石表面；
(7)電解拋光，利用陽極溶解作用，選擇性溶解陽極表面的突出部分，使表面平滑化，此法不適用於絕緣材料。
原理
電化學拋光也稱電解拋光。電解拋光是以被拋工件為陽極，不溶性金屬為陰極，兩極同時浸入到電解槽中，通以直流電而產生有選擇性的陽極溶解，從而使工件表面光亮度增大，達到鏡面效果。
