《納米材料分析》是2003年化學工業出版社出版的圖書，作者是黃惠忠。
本書可供從事納米材料研究與器件開發的科技人員學習參考，亦可作為相關領域的研究生教材。
基本介紹
內容簡介,目錄,
內容簡介
“納米科技”是指在納米尺度（0.1-100nm）上研究物質的特性和相互作用以及利用這些特性開發新產品的科學與技術。《納米材料分析》內容是納米科技的重要方面之——一納米檢測與表征的方法與技術。書中介紹了在納米尺度上原位研究各種納米結構的電、磁、光、熱、力學等特性；納米空間的化學過程、物理運輸過程；以及納米空間的原子、分子的排列、組裝與其奇異的物性的關係的研究方法。包括了全部的納米材料現代檢測技術，詳述了方法原理與檢測技術，並有具體實例。
目錄
第一章緒論1
尺寸效應2
量子尺寸效應2
表界面效應3
納米結構功能材料與器件的分子工程研究4
納米結構分析器件5
金屬納米簇的錨定與DNA檢測生物晶片5
納米結構化學感測器7
參考文獻7
第二章掃描隧道顯微術9
STM基礎知識9
1隧道效應9
STM工作原理12
……
烷基胺和烷基硫醇對小Pt納米原子團簇的表面修飾：
XPS研究有機配體對小Pt納米原子團簇結合能的影響117
用XPS峰形分析測定表面納米結構119
XPS和近邊X射線吸收精細結構對Au和Ag上含硫芳香族
自組裝單層結構的分析123
X射線光電子衍射(X?ray Photoelectron Diffraction,
XPD)對SiC和AlN外延膜多種類型和極化性的研究128
參考文獻131
第六章紫外光電子能譜在納米材料分析中的套用133
第一排過渡金屬和C3原子團簇的振動分辨光電子
能譜：MC-3（M=Sc,V,Cr,Mn,Fe,Co和Ni）133
UPS等對自組裝有機/無機半導體界面上酞菁鉛
電子結構的分析138
光電發射譜對單壁碳納米管束的分析143
角分解光電子發射分析準一維導體Nb3Te4147
角分解光電子能譜（ARPES）和STM等分析半導體
表面上自組織的量子線151
參考文獻153
第七章飛行時間二次離子質譜術、電子能量損失譜和表面擴展X射線
吸收精細結構等在納米材料分析中的套用155
飛行時間二次離子質譜術對自組裝單層的分析155
自組裝膜155
自組裝單層（SAMs）156
自組裝單層對高聚物和蛋白質的陽離子化效應159
電子能量損失譜在納米材料分析中的套用161
單根納米管的電子能量損失譜161
線掃描模式的TEM(Transmission Electron Microscope,
透射電鏡）?EELS研究納米尺度多層164
EELS對雷射燒蝕合成Y?Ba?Cu?O納米桿的分析167
EELS分析共軸納米電纜：用氮化硼和碳包復氧化矽和
碳化矽169
EELS等技術對納米粒子和具明確分層BN和
C納米管合成的分析172
模板合成BN：C納米盒的分析176
表面擴展X射線吸收精細結構譜等對Cu(100)上自組裝納米
尺度Fe島結構和磁性的分析179
近邊X射線吸收精細結構譜（NEXAFS）等對氧化矽納米
原子團的形態、光致發光和電子結構的分析183
XPS等對Si納米線中表面結構、光致發光和激發的比較
研究186
參考文獻189
第八章俄歇電子能譜在納米材料分析中的套用190
引言190
俄歇電子能譜原理191
俄歇電子產生過程191
俄歇躍遷過程定義及標記192
俄歇電子動能192
俄歇電子強度193
電離截面193
俄歇躍遷幾率與X射線螢光幾率194
平均自由程與平均逃逸深度195
俄歇電子能譜儀的結構196
AES譜儀的基本結構196
電子束源196
俄歇電子能譜的實驗技術196
樣品製備技術196
含有揮發性物質和表面污染的樣品197
帶有微弱磁性的樣品197
離子束濺射技術197
樣品荷電問題198
俄歇電子能譜採樣深度198
俄歇電子能譜圖的分析技術199
俄歇電子能譜的定性分析199
表面元素的半定量分析201
表面元素的化學價態分析202
元素深度分布分析202
微區分析204
選點分析204
線掃描分析206
元素麵分布分析207
俄歇電子能譜在納米材料研究上的套用208
納米薄膜表面清潔程度的測定209
表面吸附和化學反應的研究209
納米薄膜厚度測定211
納米薄膜的界面擴散反應研究211
固體表面離子注入分布及化學狀態的研究214
納米薄膜製備的研究217
納米薄膜化學反應研究219
納米薄膜表面擴散研究222
薄膜催化劑的研究222
10MoO3的表面單層擴散研究225
1金屬負載納米薄膜光催化劑的研究226
12納米尺度多層膜的俄歇電子能譜分析230
納米尺度的多層膜分析230
元素的俄歇電子像和二次電子像234
參考文獻234
第九章X射線結構分析技術236
X射線衍射分析基礎236
X衍射分析歷史236
射線的產生236
射線譜237
X射線衍射的基本理論237
衍射的概念237
X射線衍射方向238
X射線的衍射強度239
X射線衍射裝置和實驗239
X射線衍射的方法239
樣品製備240
X射線衍射分析240
XRD物相定性分析241
物相定量分析241
晶粒大小的測定原理243
小角X射線衍射245
應力的測定246
薄膜厚度和界面結構測定247
物質狀態的鑑別248
納米材料研究中的XRD分析248
納米材料合成中的物相結構分析248
納米材料晶粒度的分析253
納米介孔結構的測定254
納米薄膜分析257
1TiO2薄膜的晶相結構和薄膜結構257
煅燒過程對TiO2薄膜光催化劑晶型結構的影響259
納米催化劑中毒研究260
XRD物相定量分析研究納米催化劑的單層分散261
參考文獻262
第十章納米材料的顆粒度分析263
基礎知識263
粒度分析方法263
電鏡觀察法264
雷射粒度分析法264
雷射粒度分析原理264
雷射粒度分析儀裝置265
沉降法粒度分析266
電超聲粒度分析法267
粒度分析的樣品製備268
粒度分析在納米材料中的套用269
電鏡觀察法研究高分子納米球269
TiO2納米光催化劑顆粒分布研究269
石墨顆粒的粒度分析272
炭黑粒度分析272
多酸澱粉複合物的納米顆粒274
光子相關光譜技術分析納米顆粒274
參考文獻276
第十一章電子顯微分析技術277
透射電鏡（TEM）基礎知識278
透射電鏡構造278
電子光學部分278
真空部分280
電子學部分和其他280
樣品台280
透射電鏡的合軸調整280
透射電鏡成像原理281
電子衍射282
衍射襯度像284
高分辨電子顯微術（HREM）285
會聚束衍射(CBED)287
微衍射(NED)287
X射線能譜儀（EDS）288
能譜儀原理289
EDS性能289
射線譜儀的分析方法290
電子能量損失譜(EELS)292
透射電鏡樣品製備292
掃描電鏡（SEM）基礎知識295
掃描電鏡的基本結構295
掃描電鏡像形成襯度原理295
二次電子像形成襯度原理296
背散射電子像形成襯度原理297
掃描電鏡性能特點及其分
世界上最小的納米天平310
碳納米管電導的測量311
碳納米管的場發射和逸出功的測量312
納孔結構分析313
參考文獻316
第十二章振動光譜技術318
振動光譜的基本原理318
分子的振動光譜318
紅外光譜319
拉曼光譜322
紅外光譜與拉曼光譜比較324
納米材料的紅外吸收和拉曼散射行為327
納米材料的特性327
納米材料的紅外吸收328
納米材料的拉曼散射331
幾種典型的振動光譜實驗技術336
反射吸收紅外光譜技術336
掠角反射吸收紅外光譜技術337
衰減全反射紅外光譜技術344
表面增強紅外光譜技術345
表面增強拉曼光譜技術349
