平面磁控濺射靶材光學薄膜用鈮靶

平面磁控濺射靶材光學薄膜用鈮靶

《平面磁控濺射靶材 光學薄膜用鈮靶(YS/T 718-2009)》由全國有色金屬標準化技術委員會提出並歸口。本標準起草單位:利達光電股份有限公司。本標準主要起草人:李智超、楊太禮、付勇、段玉玲、張向東、趙倫。本標準適用於平面磁控濺射光學薄膜用鈮靶材。

基本介紹

  • 中文名:平面磁控濺射靶材 光學薄膜用鈮靶
  • 外文名:Flat Magneting Sputtering Target-Niobium Target for Optical Coating
  • 作者:中華人民共和國工業和信息化部
  • 出版日期:2010年4月1日
  • 語種:簡體中文
  • ISBN:155066220485
  • 出版社:中國標準出版社
  • 頁數:2頁
  • 開本:16
內容簡介,文摘,編輯推薦,

內容簡介

《平面磁控濺射靶材 光學薄膜用鈮靶(YS/T 718-2009)》由中國標準出版社出版。

文摘

著作權頁:
1範圍
本標準規定了平面磁控濺射光學薄膜用鈮靶材的要求、試驗方法、檢驗規則、標誌、包裝、運輸、貯存及訂貨單(或契約)內容。
本標準適用於平面磁控濺射光學薄膜用鈮靶材。
2規範性引用檔案
下列檔案中的條款通過本標準的引用而成為本標準的條款。凡是注日期的引用檔案,其隨後所有的修改單(不包括勘誤的內容)或修訂版均不適用於本標準,然而,鼓勵根據本標準達成協定的各方研究是否可使用這些檔案的最新版本。凡是不注日期的引用檔案,其最新版本適用於本標準。
GB/T2040銅及銅合金板材
GB/T3630鈮板材、帶材和箔材
GB/T5121(所有部分)銅及銅合金化學分析方法
GB/T5231加工銅及銅合金化學成分和產品形狀
GB/T6394金屬平均晶粒度測定方法
GB/T15076(所有部分)鉭鈮化學分析方法
3術語和定義
下列術語和定義適用於本標準。
搭接率BondingPercentage
鈮板與背板之間的實際接合面積占應接合面積的百分比。
4要求
4.1材質
背板(銅板)和鈮板。
4.2化學成分
鈮板的牌號及其化學成分應符合GB/T3630的規定;銅板的牌號及其化學成分應符合GB/T5231的規定。
4.3靶材的尺寸及允許偏差
靶材的尺寸及允許偏差由供需雙方協商。
4.4表面狀況
靶材表面粗糙度及平面度由供需雙方協商。
4.5外觀質量
鈮板和銅板的外觀質量應分別符合GB/T3630和GB/T2040的規定。

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《平面磁控濺射靶材 光學薄膜用鈮靶(YS/T 718-2009)》由中國標準出版社出版。

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