對準標識是指積體電路製造工藝中，凡是在對準雷射照射下能產生衍射的周期性結構都可以被認為是對準標識。然而，在實際工藝條件下，對準標識還必須滿足其他條件：第一，晶圓上的標識必須不容易被工藝損壞；第二，便於放置在掩模上，不影響器件；第三，能有效地被對準光學系統探測到，並提供最大的信號強度。
基本介紹
- 中文名：對準標識
- 外文名：Alignment Marks
高精度光刻設備所採用的對準方式主要有兩類，即光柵衍射空間濾波干涉和視頻圖像處理。常見的對準方式如早期採用的離軸對準有雙目顯微鏡對準；共軸對準有TTL（Through The Lens）對準和雙光束逐場對準；明場對準有雷射掃描視頻圖像對準、場像對準；暗場對準有雷射步進對準；光柵對準有莫爾條紋對準、雷射外差干涉對準、全息對準等。
不同型號的光刻機可能使用不同的對準標識。這裡就幾種主要的對準標識進行討論。
圖1 ASML標準標識
圖1是ASML標準標識的設計圖。晶圓上的標識和掩模上的標識相似。水平的周期性線條是用於測量晶圓和掩模水平位置的偏差；垂直的線條是用於測量垂直方向的偏差。對準標識是8um線寬/8um間隔（周期=16nm）和8.8nm線寬/8.8nm間隔（周期=17.6nm）的密集線條。
圖2 SMASH對準標識
SMASH（smart alignment sensor hybrid）標識的設計如圖2所示。它是一系旋轉了45°的等間距線條構成的。這些線條不一定都是實線條，也可以是由點陣構成。
圖3 Nikon LSA和FIA對準標識
Nikon有兩種對準標識的設計： LSA標識和FIA標識。 LIA可以使用FIA的標識。圖3(a)是LSA的設計，圖3(b)是FIA的設計圖形。它們用於確定晶圓X方向的位置。把3(a)、3(b)旋轉90°，用於確定晶圓Y方向的位置。
圖4 Canon對準標識
Canon光刻機使用的對準標識如圖4所示。用於對準照明的光源可以是He-Ne雷射（632.8nm波長）或具有較寬波段的可見光（590±6nm）。
