失效分析儀

失效分析儀是CORIAL D250 PECVD系統的輔助設備，共同完成SiO2薄膜的沉積工藝，主要套用於半導體製造等領域，通過與CORIAL D250 PECVD系統的協同工作完成SiO2薄膜沉積工藝。該設備具備高沉積速率和優異的薄膜均勻性，可有效保障薄膜的光學性能與工藝穩定性。

基本介紹

• 設備名稱：CORIAL 200FA
• 沉積速率：≥100nm/min
• 折射率：1.46±0.01
• 均勻性：優於±3%
• 協同系統：CORIAL D250 PECVD

功能與用途

失效分析儀是CORIAL D250 PECVD系統的輔助設備，共同完成SiO2薄膜的沉積工藝。

技術參數（截至2021年1月）

根據2021年01月06日更新的數據，設備技術參數包括：

1. SiO2薄膜沉積速率≥100nm/min
2. SiO2薄膜折射率1.46±0.01
3. SiO2薄膜均勻性優於±3%

協同系統

失效分析儀與CORIAL D250 PECVD系統共同完成SiO2薄膜的沉積工藝，前者負責工藝監測與失效診斷，後者提供電漿增強化學氣相沉積技術，二者協同保障沉積工藝的高效性和穩定性。