圖像掩模

圖像掩模是用選定的圖像、圖形或物體、對待處理的圖像(全部或局部)進行遮擋來控制圖像處理的區域或處理過程。

基本介紹

• 中文名：圖像掩模
• 外文名：mask
• 目的：控制圖像處理的區域或處理過程
• 套用：提取感興趣區、禁止作用等

詞目： 圖像掩模 。英文： image masking,image mask 。釋文： 用選定的圖像、圖形或物體,對待處理的圖像(全部或局部)進行遮擋,來控制圖像處理的區域或處理過程。用於覆蓋的特定圖像或物體稱為掩模或模板。光學圖像處理中,掩模可以是膠片、濾光片等。數字圖像處理中,掩模為二維矩陣數組,有時也用多值圖像。數字圖像處理中,圖像掩模主要用於：①提取感興趣區,用預先製作的感興趣區掩模與待處理圖像相乘,得到感興趣區圖像,感興趣區內圖像值保持不變,而區外圖像值都為0。②禁止作用,用掩模對圖像上某些區域作禁止,使其不參加處理或不參加處理參數的計算,或僅對禁止區作處理或統計。③結構特徵提取,用相似性變數或圖像匹配方法檢測和提取圖像中與掩模相似的結構特徵。④特殊形狀圖像的製作。

如圖：DisplayPort的眼圖測試。

眼圖掩模即為中心菱形區域，眼圖測試的圖形不可以出現在菱形以內，否則判定為不合格。