化學拋光技術

化學拋光，一般使用硝酸或磷酸等氧化劑溶液，在一定的條件下，使工件表面氧化，此氧化層又能逐漸溶人溶液，表面微凸起處氧化較快而較多,而微凹處則被氧化慢而少。同樣凸起處的氧化層又比四處更多、更快地擴散，溶解於酸型溶液中,因此使加工表面逐漸被整平，達到改善工件表面粗糙度或使表面平滑化和光澤化的目的。

化學拋光可以大面或多件拋光薄壁、低剛度工件，可以拋光內表面和形狀複雜的工件，不需要外加電源、設備，操作簡單、成本低。其缺點是化學拋光效果比電解拋光效果差，拋光過程中會產生氮氧化合物等環境污染物，而且拋光液用後處理較麻煩。

金屬的化學拋光,常用硝酸、磷酸、硫酸、鹽酸等酸性溶液拋光鋁、鋁合金、鑰、鑰合金，碳鋼及不鏽鋼等。有時還加人明膠或甘油之類。拋光時必須嚴格控制溶液溫度和時間。溫室從室溫到90℃，時間自數秒到數分鐘，要根據材料、溶液成分經實驗後才能確定最佳值。

半導體材料的化學拋光，如鍺和矽等半導體基片在機械研磨平整後，還要最終用化學拋光去除表面雜質和變質層。常用氫氟酸和硝酸、硫酸混合溶液或雙氧水和氫氧化銨的水溶液。