基本介紹
印油使用方法,使用次數少時,使用量大時,其他方法,光敏印油原理,優缺點,優點,缺點,
印油使用方法
光敏印油使用方法
綜述
自己的印章是不是光敏印章。以免加錯印油。一旦加錯印油這種章就會作廢了。
加油：把印油擠在章面上，讓它自己往下滲透就可以了。還有一種光敏印。外殼表面有個小孔。這種就比較方便了。直接擠在小孔里就可以了。
使用次數少時
在使用前加一點油即可。方法：取下章蓋，讓字面朝上，用少量光敏印油塗抹印章框線、字型和圖片，待油慢慢透入後，根據情況再適量塗抹幾次。.
然後用乾淨的軟布或紙巾擦去多餘的油，則立即可以使用。
使用量大時
從印章的柄下部加油口進行加油，方法：印章正放於桌面，用手拉開柄下部的注油口拉蓋，拿一小瓶印油（如果是大瓶，最好用注射器一類），瓶口尖端對準注油口，一滴滴將印油加入，如果遇到注油口太小印章不能順利加入，可以稍微震動一下印章，讓油自然流入。 光敏印章內一般都有儲油的海綿質體，它會將多餘的油暫時吸收，以後再慢慢向下滲透到光敏墊 。
其他方法
取下光敏墊，放入印油中，字面朝上，印油不要超過光敏墊的厚度，讓光敏墊慢慢吸收印油。如果印章有海綿質體，可以放一些油在裡面。等光敏墊完全充滿印油後，取出放入印章殼。
光敏印油原理
光致抗蝕劑 用於光加工工藝的光敏高分子，通稱光致抗蝕劑（又稱光刻膠），大量用於印刷製版和電子工業的光刻技術中。它的工作原理是受光部分發生交聯，生成難溶性的硬化膜，經加工成負像（負性膠）；或者是原來的不溶性膠受光照後變為可溶性的，經加工得正像（正性膠）。 通常用的光致抗蝕劑有：①聚肉桂酸酯型，例如聚乙烯醇肉桂酸酯，由聚乙烯醇和肉桂醯氯在吡啶溶劑中合成，配製的光刻膠稱KPR。在紫外線作用下,肉桂酸酯的雙鍵發生光化學二聚反應，形成交聯，轉變為不溶性物質。KPR是最早用於光刻的一種光致抗蝕劑,通常加入5－硝基苊等作為光敏劑。②丙烯醯基型,其線型聚合物不能得到優良的圖像，所以實用體系都由預聚體和單體組成，同時進行聚合和交聯。通常交聯單體和預聚體是一元或多元的丙烯酸酯、丙烯醯胺和丙烯酸氨基甲酸酯類。例如，由這類單體交聯劑製成的聚酯和尼龍感光樹脂版，已能用來代替銅、鋅凸版。③疊氮型，疊氮化物光解，生成活潑的一價氮化物,很容易偶合或與碳-氫鍵、雙鍵反應。用於光敏樹脂的疊氮化物均為穩定的芳族化合物。雙疊氮化合物是一種光交聯劑(如下式所示)，能引起許多高聚物交聯。 例如疊氮-環化橡膠就是一種常用的光致抗蝕劑。④重氮鹽類和鄰偶氮醌型光敏高分子，也是常見的光致抗蝕劑。 光固化塗層和油墨 光敏高分子的另一重要類型。由於它具有不用溶劑，不產生污染，以及固化速率快等優點，近年來發展很快。它們的主要組成：①樹脂或預聚體；②交聯單體(一般為雙或多官能團的丙烯酸酯類)；③光引發劑；④顏料或染料。目前以丙烯酸酯型和不飽和聚酯型為主；尤以前者重要。此外，硫醇－烯類光聚合和陽離子開環光聚合體系也是近年來引人注意的體系。 其他功能性的光敏高分子 可根據不同的用途，通過引入相應功能的光敏官能團而製得。例如利用吲哚啉苯並螺吡喃發生可逆的光異構化反應，可以製備光致變色功能高分子。又如咔唑，在光作用下易和電子受體發生電子轉移，可用作高分子光導電材料。再如四溴四碘螢光素，在光作用下通過能量轉移能使氧轉變為單線態氧，可用作高分子型光氧化催化劑等。
