余吟山

余吟山，1945年出生。1967年畢業於上海交通大學，1984年在華中理工大學獲理學碩士學位。

基本介紹

• 中文名：余吟山
• 國籍：中國
• 出生日期：1945年
• 畢業院校：上海交通大學

人物簡介

1981年赴德國馬克斯-普朗克學會地外物理研究所，從事紅外超外差光譜儀研製。1983年回國，歷任中國科學院安徽光學精密機械研究所副所長、研究員、博士生導師，兼任中國科技大學高等研究院副院長；中國光學學會雷射專業委員會委員；中國電子學會雷射專業委員會委員；光電子技術與信息雜誌主編。主要科研工作及研究方向：準分子雷射及其套用。在國內首先研製成功20W級實用準分子雷射器，並將磁脈衝壓縮開關套用於準分子雷射器，提高了雷射器高壓開關性能。在國內首先研製成功100W準分子雷射。曾獲中科院科技進步二等獎三次，三等獎二次；發表論文30餘篇；實用新型專利二項。先後於1990年被國家教委和勞動人事部授予有突出貢獻的留學回國人員稱號；1992年被評為安徽省勞動模範；1993年獲國家五一勞動獎章；1994年獲中科院"中青年優秀專家"稱號。

余吟山照片

研究方向

準分子雷射技術

專家類別

二級研究員

職務

課題組長

獲獎及榮譽

曾獲中國科學院 科技進步獎五次： 1987.5《10W 級XeCl 準分子雷射器》二等獎 1989.5《20W 級實用型XeCl 準分子雷射器》三等獎 1990.5《磁開關在實用準分子雷射器中的套用》二等獎 1991.5《實用型長脈衝低發散角KrF準分子雷射器》三等獎 1993.5《百瓦級準分子雷射器》二等獎 1991年被國家勞動人事部評為全國做出突出貢獻的留學回國人員 1992年評為安徽省勞動模範 1993年獲全國五一勞動獎章 1994年評為中科院中青年優秀專家

代表論著

Research of cornea section’s shape ablated by 193nm ArF laser spots

Chinese optics letters

飛點掃描式準分子雷射角膜屈光矯正系統 《量子電子學報》 2001.1

受激布里淵散射相位共軛鏡產生高質量短脈衝XeCl雷射 《光學學報》 1998.7

利用可飽和電感延長準分子雷射器中閘流管的使用壽命 《中國雷射》 1997.9

100W XeCl 準分子雷射器的放電特性 《雷射技術》 1997.4

放電激勵的100W　XeCl準分子雷射器 《量子電子學報》 1996.8

磁脈衝壓縮開關在準分子雷射器中的套用 《量子電子學報》 1995.12

高重複率XeCl準分子雷射器的放電特性 《光學學報》 1989.10

20W高穩定度高效率XeCl準分子雷射器研究 《中國雷射》 1989.8

10.6μm天文外差光譜儀 《紅外研究》 1985.8