XRL

XRL即X射線光刻,光源波長約為1納米,易於實現高解析度曝光。

基本介紹

  • 中文名:X射線光刻
  • 外文名:XRL
  • 光源波長:約為1納米
  • 易於:實現高解析度曝光
概念,語法,

概念

XRL光源波長約為1納米。由於易於實現高解析度曝光,自從XRL技術在70年代被發明以來,就受到人們廣泛的重視。歐洲、美國、日本和中國等擁有同步輻射裝置的國家相繼開展了有關研究,是所有下一代光刻技術中最為成熟的技術。XRL的主要困難是獲得具有良好機械物理特性的掩膜襯底。近年來掩膜技術研究取得較大進展。SiC目前被認為是最合適的襯底材料。由於與XRL相關的問題的研究已經比較深入,加之光學光刻技術的發展和其它光刻技術的新突破,XRL不再是未來"惟一"的候選技術,美國最近對XRL的投入有所減小。儘管如此,XRL技術仍然是不可忽視的候選技術之一。

語法

XRL是一條單片機邏輯運算指令,執行異或運算。“異或”運算是當兩個運算元不一致時結果為1,兩個運算元一致是時結果為0。有六種語法:
XRL A,Rn ;A和Rn中的值按位'異或',結果送入A中
XRL A,direct ;A和direct中的值按位'異或',結果送入A中
XRL A,@Ri ;A和間址定址單元@Ri中的值按位'異或',結果送入A中
XRL A,#data ;A和立即數data按位'異或',結果送入A中
XRL direct,A ;direct中值和A中的值按位'異或',結果送入direct中
XRL direct,#data ;direct中的值和立即數data按位'異或',結果送入direct中

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